原问题 
：把光刻机做成「光刻工场」，把光国产妄想的刻机脑洞事实有多大？

光刻机行业，正爆发着怪异修正 。做成

距离华为Mate 60 pro猛然开售已经由去半个月，光刻工场国产线上预订的妄想粉丝们最近都陆续收到了新机
。

但由于华为民间不断不召开手机宣告会，脑洞事多因此这款手机上依然有颇为多的把光谜团期待解开 。

就好比，刻机这颗猛然“空降”的做成麒麟9000s处置器，事实算不算5G芯片？华为又是光刻工场国产若何在重重封锁下，“手搓”这颗纯国产芯片呢 ？

在这里，妄想咱们就不同过错华为眼前的脑洞事多技术以及妨碍过多预料 ，但可能确定的把光是
，国产光刻机技术在近期有不小的刻机突破。

巧的做成是，就在最近，一项来自清华大学的光刻机技术在收集上火了起来，重大来说 ，便是把光刻机做患上饶富大，就能破费出EUV光刻机需要的光源。

这样的脑洞，不光路人们听下来玄乎 ，就连良多技术职员也展现了惊叹。

一光阴 ，网上的解读以及质疑声也是层出不穷 。

甚么是SSMB

这项由清华大学提出的技术，业余术语名叫“稳态微聚束”（steady-state micro-bunching），简称SSMB，是一种新型的粒子减速器光源。

最先由清华大学卓越碰头教授赵午教授与其博士生于2010年提出，并在2017年，与清华大学工程物理系教授唐传祥相助
，配合建议实际试验。

在2022年的中国物理学会春天学术团聚上，钻研组成员潘志龙提到了由SSMB技术造进去的光刻机，叫作“SSMB-EUV”光刻机，而这也正是最近品评辩说的话题的源头。

图源 | 寇享学术

SSMB眼前波及的道理颇为重大，笔者并不能残缺批注 ，以是这里就散漫多少位科普博主的教学视频，重大妨碍一点演绎综合。

首先 ，光刻机的道理 ，是运用光刻机收回的光源，经由设定好图形的光罩，对于涂有光刻机的硅板妨碍曝光，从而“刻”出电子路线图，再妨碍一些前期加工 ，最终组成芯片的雏形。

假如光源的波长越短 、功率越大，这样的“光刀”就愈加犀利
，“雕刻”进去的电子路线图也就愈加详尽 ，芯片的功能与算力也就越强。当初 ，波长仅为13.5nm的极紫外光（EUV） ，是高端芯片的仅有抉择。

从电磁波谱上看，EUV已经颇为挨近X-射线，这么高的能量 ，单靠物理操作很难实现。

ASML接管的是LPP方式，经由一台功率大于20 kW的CO2气体激光器轰击液态锡，组成等离子体 ，从而发生极紫外光。

图 | LPP-EUV

在找到EUV光源处置妄想后
，加之多年以来的光刻技术 ，ASML做出业内最顶尖的EUV光刻机，最终操作了全部市场 。

值患上一提的是
 ，为ASML提供EUV技术的是美国公司Cymer，这是全天下仅有可能提供商用EUV光源的公司，国内做作无奈从外部处置光源下场 。

不外 ，实现EUV光源的妄想不止一种，清华大学团队想到了用减速器减速电子 ，从而发生高功率的辐射
。

重大来说，电子惟独减速行动，就会发射电磁波，实际上惟独减速率够快，那末确定泛起适宜EUV波长的“光子”
。

但光有一个“光子”还不够
，想做光刻机需要晃动的“光束”
。

钻研职员发现 ，当电子束绕过减速器后 ，受到磁场的熏染，会组成详尽的微妄想，这种便是“微聚束” 。

图源 | 《做作》杂志

再让这些微聚束穿入激光阵列 ，经由激光与电子的相互熏染，组成有确定距离，相对于群集的部署 ，就这样 ，微聚束被“稳态”地坚持了 。

就这样，稳态微聚束泛起出极紫外光的高功率与短波长，算患上上一种全新的EUV光源处置思绪。

光刻机做成“光刻厂” ，靠不靠谱
？

批注完SSMB技术，光刻厂又是奈何样一回事 ？

在网上，有人把“SSMB-EUV”光刻机称作光刻工场，致使给出了工园地址的地河北雄安新区 ，并贴出了相关图片（注：网传图片为高能同步辐射光源名目 ，并非SSMB配置装备部署）
。

据悉
 ，除了3nm工艺外，4nm、7nm、14nm 、28nm，个别你风闻过的芯片制程工艺 ，都能在这个光刻工场里处置
。

图源 | 微博

为了更好地清晰，有人抽象地将光刻工场好比成篮球架——假如说从前最中间的篮筐里（3nm）难度很大，那末就多加多少个篮筐（其余工艺）
，惟独投篮次数够多，总能投到最中间篮筐 ，而投不进的话 ，掉到其余篮筐里也能患上分  。

从道理上来说，光刻工场以及SSMB技术简直有很大的分割关连性
，都是运用电子束减速发生电磁波，从而患上到对于应的波长 。由于粒子减速器体积大（减速器周长100-150米），同时需要良多配套配置装备部署，因此占地规模大也颇为个别。

尽管，妄想可行，实施起来并无那末简略 。

首先 ，从民间往事稿看 ，这次在雄安新区落地的SSMB-EUV光源配置装备部署名目更挨近科研用途，而不是实际破费。

从研发历程来看
，SSMB-EUV技术在2021年在《Nature》杂志上正式刊登 ，经由道理验证实验
，想在短期内跨过下一步验证，走向商用，还要确守光阴
。

着实，不论是光刻机仍是光刻工场 ，光源只是光刻机中的关键配置装备部署之一 ，其余配套配置装备部署同样不可或者缺 。

作为一种全新的妄想，其余国产替换配置装备部署是否适配SSMB-EUV技术 ，仍是一个未知数。

最后  ，便是良多人提到的能源破费以及运用老本高的下场，虽而后续可能经由修筑多条破费线将老本摊薄
，但这就需要极强的妄想能耐以及临时经营能耐。

总之，妄想有了
，思绪有了，光刻工场值患上期待 ，但距离实际破费尚有一段距离。

国产光刻机 ，奋力追赶

如今时隔三年，SSMB技术再次引起品评辩说，足以看出国人对于国产光刻机的期待
。除了此之外，国内尚有其余卓越的EUV光源妄想 ，好比位于大湾区的广智院 ，就提出了改善型的LPP方式 ，经由绕开二氧化碳激光器这个部件，发生出极紫外光。

但从实际走向实物，依然要走简短的道路，惟独财富链上卑劣的配合 ，能耐真正实现光刻机的突破
。除了光源这一关键之外，光刻机上卑劣尚有颇为多的关键，良多都防止不了来自外界的压力 。

另一方面，行业巨头ASML也在光阴凝望着国产光刻机的动向 。

此前，日本厂商就在与ASML光刻机的相助中败下阵来，最终患上到了先进制程规模。在ASML的眼前 
，有着欧美的鼎力反对于，这与当初中美相助模式颇为相似。

专神思的是，ASML更像是一个看重短处的贩子，纵然顶着制裁的危害 ，但ASML依然黝黑示好中国市场 。

随着国产光刻机奋力追赶，ASML的EUV妄想早晚被遇上，光刻机行业概况会爆发一些怪异的修正 。

本文作者：jh  ，意见仅代表总体
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